九江（jiāng）雙（shuāng）堿法脫硫塔-雙（shuāng）堿法脫硫塔工作原理

雙堿法脫硫工藝是先用鈉堿性吸收液進行煙氣脫硫，然後再用石灰粉（fěn）再生脫硫液，由於整個反應過程是液氣相之間進行，避免了係（xì）統結垢問題，而且脫硫速（sù）率高、液氣比小、吸收劑利用率高、投資費用省、運行成本低，適用於鍋（guō）爐煙氣、焦爐氣、鍋爐生產廢氣等的脫硫（liú）。

一、工藝特點

1、以NaOH(Na2CO3)脫硫（liú），材（cái）料普通，資源豐富，投資成本低；脫硫液中主要為NaOH(Na2CO3)水（shuǐ）溶液，在循（xún）環過（guò）程中緩（huǎn）解水泵、管道、設備腐蝕、衝刷及堵塞，便於設備運行和維護。

2、鈉基吸收液對SO2反（fǎn）應速度快，故有較小的液氣比，達到較高的脫硫（liú）效（xiào）率，一般≥90%。

3、脫硫劑可被循環使用，它的再生及脫硫沉澱均發生於塔體（tǐ），避免塔內堵塞和磨損，降（jiàng）低了運行成本。

4、以空塔噴淋為脫硫塔結構，運行可靠性高，事故發生率小，塔阻力低（dī），△P≤600Pa。

二、工藝原理

1、工藝介紹

雙（shuāng）堿法脫硫係統采用鈉基脫硫劑進行脫硫，將NaOH（燒堿、火堿）和Ca(OH)2（熟石灰、消石灰）攪拌均勻後做成溶液打（dǎ）入脫硫塔，該堿性溶液（yè）霧化（huà）後與含硫煙（yān）氣充分反應，從而脫除煙氣中的SO2。脫硫產物經脫硫劑再生池被Ca(OH)2還原成NaOH，可再次循環使用。

2、工藝原理

含硫煙氣經除塵後，由引風機正壓吹入噴淋脫硫塔內。在噴淋塔內設置霧化係統，在該區段空間充滿著由霧（wù）化器（qì）噴出（chū）的粒（lì）徑為100～300μｍ的霧化液（yè）滴，煙氣中SO2與吸（xī）收堿液再次反應，脫除90%以上的二氧化硫。

脫硫後的液體落入脫硫塔底部（bù），定時定期（qī）排入脫硫塔後設（shè）置的收集係統，適當補充一定量的堿液後，經循環泵（bèng）再次送入噴霧和配液係統中被再次利用，脫硫劑一直處（chù）於循環狀態。

經多次循環後的脫硫漿液排入後處理係統（tǒng）。由於設計的特殊性，經脫硫後的煙氣通過塔頂除霧器時，將煙氣中的液滴分離出來（lái），達到同時除塵除霧（wù）的效果，潔淨煙氣終達標排放。

三、工藝優勢

1、煙氣係統

煙氣經煙道引風機直接進入（rù）脫硫塔，脫硫塔（tǎ）以空塔噴淋結構（gòu），設計空速小（4.0m/s），塔壓力降小（≤600Pa）。脫硫集中除塵、脫（tuō）硫、排煙氣（qì）於一體，煙氣升至塔頂（dǐng）進入煙囪排入大氣。當脫（tuō）硫泵出現故障時，脫硫暫（zàn）停反應，煙（yān）氣可通過煙囪排入大氣。

2、脫硫塔SO2吸收係統

煙氣（qì）進入脫硫塔向上（shàng）升起，與向下噴淋的脫硫（liú）塔以逆流式洗滌，脫硫塔采用噴嘴式空塔（tǎ）噴淋，將溶劑霧化無（wú）數液滴，讓氣（qì）液充分接觸吸收SO2。氣液相接觸麵積越大，兩相傳（chuán）質（zhì）熱反應，效率越高。

脫硫塔內（nèi）堿液霧化吸收（shōu）SO2及粉塵，生成Na2SO3，同時消耗了NaOH和Na2SO3。脫硫液排出塔外進入再生池與Ca(OH) 2反應，再生出（chū）鈉（nà）離子並補入Na2SO3（或NaOH），經循環脫硫泵打入脫硫循環吸（xī）收SO2。

脫硫塔頂部裝有除霧器，經除霧器（qì）折流板碰衝作用，煙（yān）氣攜帶的煙塵和其（qí）他水（shuǐ）滴（dī）、固體顆粒被除霧器捕獲（huò）分離。

3、脫硫產物處理

脫硫（liú）產物是石膏漿，具體為（wéi）CaSO3、CaSO4還有部分被氧化（huà）的（de）Na2SO4及粉塵。由（yóu）潛水泥漿泵從沉澱（diàn）池排出處理好，經自然蒸發晾幹。由於石膏漿中含有固體雜質，影響石膏的（de）質量，所以一（yī）般以（yǐ）拋棄（qì）法（fǎ）為高。排出沉澱池漿液可經水力旋流器，稠厚器增濃（nóng）提固後，再排至渣場處理。

4、關於二次汙染的解決

雙（shuāng）堿法是以鈉堿吸（xī）收SO2,其產物可再生出鈉堿繼續使用。有少量的Na2SO4不能夠再生被帶（dài）入石膏漿液中，經固液分離，分離的固體殘渣進行回收堆放再做他用。溶液流回再生池繼續使用，因此不會產生二次汙染。

5、吸收SO2效率及（jí）主要影響因（yīn）素

PH值：PH值高，SO2吸收速率大，脫硫效率高，同時PH值高，結垢幾率小，避（bì）免（miǎn）吸（xī）收劑表（biǎo）麵純化。

溫（wēn）度：溫度低有利於（yú）氣液傳（chuán）質，溶解SO2，但溫度低影響反（fǎn）應速度，所以（yǐ）脫硫劑的溫度不是一個獨立的不變因素，取決於進氣的煙氣溫度。

石灰粒度及純（chún）度：要求石（shí）灰純度≥95%，粒度控製Pc200~300目內。

液漿濃（nóng）度：控（kòng）製在10~15%。