甘南雙堿法脫硫塔-雙堿法脫硫塔工作原理

雙堿法脫硫工藝是先用鈉堿性吸收液進行煙氣脫硫，然後再用石灰粉再生脫硫液，由於整個反應過程是液氣相之間進行，避免了係統結垢問題，而且脫硫速率高、液氣比小、吸收劑利用率高、投資費用省、運行成本低，適用於鍋爐煙氣、焦爐氣、鍋爐生產廢氣等（děng）的脫硫。

一、工藝特點

1、以NaOH(Na2CO3)脫（tuō）硫，材料普通，資源豐富，投資成本低；脫硫液中主要為NaOH(Na2CO3)水溶液，在循環過程中緩解水泵、管道、設備腐蝕（shí）、衝刷及堵塞，便於設備運行和維護（hù）。

2、鈉基吸收液對SO2反應（yīng）速度快，故有較小的液氣比，達到較高的脫（tuō）硫效率（lǜ），一般≥90%。

3、脫硫劑可被循環使用，它的再（zài）生及脫硫沉澱均（jun1）發生於塔體，避免塔內堵塞和磨損，降低了運行成本。

4、以空塔噴淋為（wéi）脫硫塔結構，運（yùn）行可靠性高，事故發生率小，塔阻力低，△P≤600Pa。

二、工藝原理（lǐ）

1、工藝介紹

雙堿法脫硫係統采用鈉基脫硫劑進行脫硫，將NaOH（燒（shāo）堿（jiǎn）、火堿）和Ca(OH)2（熟石灰、消石灰）攪拌均勻後做成（chéng）溶液打入脫硫塔（tǎ），該堿性溶（róng）液霧化後與含硫煙氣充分反應，從而脫除煙氣中的SO2。脫硫產物經脫硫劑再生池被（bèi）Ca(OH)2還原成NaOH，可再次（cì）循環使用。

2、工藝原理

含硫煙氣經除塵後，由引風機正壓吹入噴（pēn）淋（lín）脫硫塔內。在噴淋塔內設置霧（wù）化係統，在該區段空間充滿著由霧化器噴出的粒徑為100～300μｍ的霧化液滴，煙氣（qì）中SO2與吸收（shōu）堿液再次反應，脫除90%以上的二氧化硫。

脫硫後的液體落入脫硫塔（tǎ）底（dǐ）部，定時定期排入（rù）脫硫塔後設置的收（shōu）集係統，適當補充一定量的（de）堿液（yè）後，經循環泵再次送入噴霧和配液係統（tǒng）中被再次利用，脫硫（liú）劑一直處於循環狀態。

經多次循環後的脫硫漿液排入後處理係統。由於設計的特殊性，經脫硫後的煙（yān）氣通過（guò）塔頂除霧器時，將煙氣中的（de）液滴分離出來，達到同時除塵除（chú）霧（wù）的效果，潔淨煙氣終達標排放。

三、工藝優勢

1、煙氣係統

煙氣經煙道引風機直接進入脫硫塔，脫硫塔以空塔噴淋結構，設（shè）計空速小（4.0m/s），塔壓力降小（≤600Pa）。脫硫集中除塵、脫硫、排煙氣於一體，煙氣升至塔頂進（jìn）入煙囪排入大氣。當脫硫泵（bèng）出現故障時，脫硫暫停反應，煙氣可通過煙囪排入大氣。

2、脫硫塔SO2吸（xī）收係統

煙氣進入脫硫塔向上升（shēng）起，與向（xiàng）下噴淋的脫硫塔以逆流式洗滌（dí），脫硫塔采用噴嘴式（shì）空塔噴淋，將溶劑霧化（huà）無數液（yè）滴（dī），讓氣液充（chōng）分接觸吸收SO2。氣液相接觸麵積越大，兩相傳質熱反應，效率越高（gāo）。

脫硫塔內堿（jiǎn）液（yè）霧（wù）化吸收SO2及粉塵，生成Na2SO3，同時消耗（hào）了NaOH和Na2SO3。脫硫液排出塔外進入再生池與Ca(OH) 2反應，再生出鈉離子並（bìng）補（bǔ）入Na2SO3（或NaOH），經循環脫硫泵打（dǎ）入（rù）脫硫循環（huán）吸（xī）收（shōu）SO2。

脫硫塔頂部裝有除霧器（qì），經除霧器折流板碰衝作（zuò）用，煙氣攜帶的煙塵和其他水滴（dī）、固體顆粒被除霧器捕獲分離。

3、脫硫產物處理

脫硫產物是石膏漿，具體為（wéi）CaSO3、CaSO4還有部分被氧化的Na2SO4及粉塵。由潛水泥漿泵從沉澱池排出處理好，經自然蒸發晾幹。由於石膏漿中含有固體雜質，影響石膏（gāo）的質量，所以一般（bān）以拋棄法為高。排出沉澱池漿液可經水力旋流器，稠厚器增濃提（tí）固後，再排至渣場處理。

4、關於二次（cì）汙染的解決

雙堿法（fǎ）是以鈉堿（jiǎn）吸收SO2,其產物可再生出鈉堿繼續使用。有少量的Na2SO4不能夠再生被帶入石膏漿液中，經固液分離，分離的固體殘（cán）渣進行回收（shōu）堆放再做他用。溶（róng）液流回再生池繼續使用，因此不會（huì）產生二次汙染。

5、吸收SO2效率及（jí）主要影響因素（sù）

PH值：PH值高，SO2吸收（shōu）速率大（dà），脫硫效率高（gāo），同時PH值高，結垢幾率小，避免吸收劑（jì）表麵純化。

溫度：溫（wēn）度（dù）低有利於氣液傳質，溶解SO2，但（dàn）溫度低影響反應速度，所以脫（tuō）硫（liú）劑的溫（wēn）度不是一個獨立的不變因素，取決於進氣的煙氣溫度。

石灰粒度及（jí）純度：要求石灰純度≥95%，粒度控製（zhì）Pc200~300目內（nèi）。

液漿濃度：控製在10~15%。