伊犁哈薩克雙堿法脫硫塔-雙（shuāng）堿法脫硫塔工作原理

雙堿法脫硫工藝是先用鈉堿性吸收液進行煙氣脫硫（liú），然後再用石灰粉再生脫硫液，由於（yú）整個反應過（guò）程（chéng）是液氣相之間進（jìn）行，避免了係統結垢問題，而且脫硫速率高、液氣比小（xiǎo）、吸收劑利用率高、投資費用省、運行成本低，適用於鍋（guō）爐（lú）煙氣（qì）、焦爐氣、鍋爐生產廢氣等的脫硫。

一、工藝特點

1、以NaOH(Na2CO3)脫硫，材料普通，資源豐富，投資成本低；脫硫液中（zhōng）主要為NaOH(Na2CO3)水溶液，在循環（huán）過程中緩解水泵、管道、設備腐蝕、衝刷及堵塞，便於設備運行和維護。

2、鈉基吸（xī）收液對SO2反應速度快，故（gù）有較小的液氣比，達到較高的脫硫效率，一般（bān）≥90%。

3、脫硫劑可（kě）被循環使（shǐ）用，它的（de）再生及脫硫沉澱均發生於塔體，避（bì）免塔內堵塞和磨損，降低了運行成本。

4、以空塔噴淋為脫硫塔結構，運行可靠（kào）性高（gāo），事故發生率小，塔阻力低，△P≤600Pa。

二、工藝原理

1、工藝介紹

雙堿法脫硫係統采用鈉基脫硫劑進行脫硫，將NaOH（燒堿、火堿）和（hé）Ca(OH)2（熟石灰、消石灰）攪拌均勻後做成溶（róng）液打入脫硫塔，該堿性溶液霧化後與含（hán）硫煙氣（qì）充（chōng）分（fèn）反應，從（cóng）而脫除煙氣中的（de）SO2。脫硫產物經脫（tuō）硫（liú）劑再生池被Ca(OH)2還原成NaOH，可再次循環使用。

2、工藝原理（lǐ）

含硫煙氣經除塵後，由引風機正（zhèng）壓吹入噴淋脫（tuō）硫塔內。在噴淋塔內設置霧化（huà）係統，在該區段空間充滿著由霧化器噴出的粒徑為100～300μｍ的霧化（huà）液（yè）滴，煙氣中SO2與吸收堿液再次反應，脫除90%以上的（de）二氧化硫。

脫硫後的液體落入脫（tuō）硫塔底部，定時定期排入脫硫塔後設置的收集係統，適當補充一定量的堿液後，經循環泵再次送入噴霧和配液係統中被再次利用，脫硫劑一直處於循環狀態。

經多次循環後（hòu）的脫硫漿液排入後處理係統。由（yóu）於設計的特殊性，經脫硫後的（de）煙氣通過塔頂除霧器時，將煙氣中的（de）液滴（dī）分離出來，達（dá）到同時除塵除霧（wù）的效果，潔淨煙氣終達標排放。

三、工藝優勢

1、煙氣（qì）係統

煙氣經煙道引風機直接進入脫硫塔，脫硫塔以空塔噴淋結構，設（shè）計空速小（4.0m/s），塔壓力降小（≤600Pa）。脫硫集中除塵、脫硫、排煙氣於一體，煙氣升至塔（tǎ）頂進入煙囪排入大氣。當脫硫泵出現故障時，脫硫暫停反應，煙氣可通過煙囪排入大氣。

2、脫硫塔SO2吸收係統

煙氣進入脫硫塔向上升起，與向下噴淋的脫硫塔以逆流式洗滌，脫硫塔（tǎ）采用噴嘴式空（kōng）塔噴淋，將溶劑霧化無（wú）數液滴，讓氣液充分接觸吸收SO2。氣液（yè）相接觸麵積越大（dà），兩相（xiàng）傳質熱反應，效率越高（gāo）。

脫硫塔內堿液霧化吸收SO2及（jí）粉塵，生成Na2SO3，同時消耗了NaOH和（hé）Na2SO3。脫硫液排出塔外進入（rù）再生池與Ca(OH) 2反應，再（zài）生出鈉離子並補入Na2SO3（或NaOH），經循環脫硫（liú）泵打入脫硫循環吸收SO2。

脫硫（liú）塔頂部裝有除霧器，經除霧器折流板碰衝作（zuò）用，煙（yān）氣攜帶的煙塵和其他水（shuǐ）滴、固體顆粒被除霧器捕獲分離。

3、脫硫產物處理

脫硫產物是石膏漿，具體為CaSO3、CaSO4還有部分被（bèi）氧化（huà）的（de）Na2SO4及粉塵（chén）。由潛水泥漿泵從沉澱池排出處理好，經自然蒸發晾幹。由於石膏漿中含有固體雜質，影響石膏的質量，所以一般（bān）以（yǐ）拋棄法為高。排（pái）出沉澱池漿液可經水力旋流器，稠厚器增濃提固後，再排至渣場處理。

4、關於二次汙（wū）染的解決（jué）

雙堿法是以鈉堿吸收SO2,其產物可再生出鈉堿繼續使用。有（yǒu）少量的Na2SO4不能夠再生（shēng）被帶入石膏漿液中，經固液分離，分離的固體殘渣進行回收（shōu）堆放再做他用。溶液流（liú）回再生池繼（jì）續使用，因此不會產生二次汙染。

5、吸收SO2效率及主（zhǔ）要影響因素

PH值：PH值高，SO2吸收速率大，脫硫效率高，同時PH值高，結垢幾率小，避免吸收劑表麵純（chún）化。

溫度：溫度低有利於氣液傳質，溶解SO2，但溫度低（dī）影響反應（yīng）速度，所以脫硫（liú）劑的溫度不是一個獨立的不變因素，取決於進（jìn）氣的煙氣溫度。

石灰（huī）粒度及（jí）純度：要求石（shí）灰純（chún）度≥95%，粒度控（kòng）製Pc200~300目內。

液漿濃度：控製在10~15%。