發布時間:2023-07-17 11:30:37 人氣:13780
雙(shuāng)堿法脫硫工藝(yì)是先用鈉堿性吸收液進(jìn)行(háng)煙氣脫硫,然後再用石灰粉再生脫硫液,由於整個反應過程是液氣相之間進行,避(bì)免了係(xì)統結垢問題(tí),而且脫硫速率高、液氣比小(xiǎo)、吸收劑利用率高、投資費用省、運行成本低,適用於鍋爐煙氣、焦爐氣、鍋爐生產廢氣等的(de)脫硫。
一、工藝特點
1、以NaOH(Na2CO3)脫硫,材料普通,資源豐富,投資成本低;脫硫液中主要(yào)為NaOH(Na2CO3)水溶液,在循環過(guò)程中緩解水泵、管(guǎn)道、設備腐蝕、衝刷及(jí)堵塞,便於設備運行和維護。
2、鈉(nà)基吸收液對SO2反應(yīng)速度快,故有(yǒu)較小的液(yè)氣比,達到(dào)較高的脫硫效率,一般≥90%。
3、脫(tuō)硫(liú)劑(jì)可被循環使用,它的再生及脫硫(liú)沉(chén)澱均發生於塔體,避免塔內堵塞和磨損,降低了運行成本。
4、以空塔噴淋為脫硫塔結構,運行可靠性高,事故(gù)發生率小,塔阻力低,△P≤600Pa。
二、工藝原理
1、工藝介紹
雙堿法脫硫係統采用鈉基脫硫劑進行脫硫,將NaOH(燒堿、火堿)和Ca(OH)2(熟石灰、消石灰)攪拌均勻後做成溶液打入(rù)脫硫塔,該堿性溶液霧化後與(yǔ)含硫煙氣充分(fèn)反應,從而脫除煙氣中的(de)SO2。脫硫產物經脫硫劑再(zài)生池被Ca(OH)2還原成NaOH,可再次循環使(shǐ)用。
2、工藝原理
含硫煙氣經除塵後,由引風機正壓吹入(rù)噴淋脫硫塔內。在噴淋(lín)塔(tǎ)內設置霧化係統(tǒng),在該區段空間充滿著由霧化器噴出的粒徑為100~300μm的霧化液滴,煙氣中SO2與吸收堿液再(zài)次反應(yīng),脫除90%以上的(de)二氧化硫。
脫硫後的液體落入脫硫塔底部,定時定(dìng)期排入脫硫塔後設置的收集係統,適當補充一定量的堿液後,經循環泵再次送入噴霧和配液係統中被再次(cì)利用,脫硫劑一直處於循環狀(zhuàng)態。
經多(duō)次循環後的脫硫漿液排入後處理係統。由於設計的特殊性,經脫硫後(hòu)的煙氣通過(guò)塔頂(dǐng)除霧器時,將煙氣中的液滴分離(lí)出來,達到(dào)同時除塵除霧的效果,潔淨煙氣終達標排放。
三、工藝優勢(shì)
1、煙氣係統
煙氣經煙道引風機直接進(jìn)入脫硫塔,脫硫塔以空塔(tǎ)噴淋結構,設計空速小(4.0m/s),塔壓力降小(≤600Pa)。脫硫集中除塵、脫硫、排煙(yān)氣於一體(tǐ),煙氣升至塔頂進入煙囪排入大氣。當脫硫泵出現故(gù)障時,脫(tuō)硫暫停反應,煙氣可通過煙囪排(pái)入(rù)大氣。
2、脫硫塔SO2吸收係(xì)統
煙氣進入脫硫塔向上升起,與(yǔ)向下噴淋的脫硫塔(tǎ)以逆流式洗滌,脫硫塔采用噴嘴式空塔噴淋,將溶(róng)劑霧化無數液滴,讓氣液充分接觸吸收SO2。氣(qì)液(yè)相(xiàng)接觸麵積越大,兩相傳質熱反應,效率越(yuè)高(gāo)。
脫硫塔內堿液霧化吸收SO2及粉塵,生成Na2SO3,同時消耗了NaOH和Na2SO3。脫硫液排出塔外進(jìn)入(rù)再生(shēng)池與Ca(OH) 2反(fǎn)應,再生出鈉離子並補入Na2SO3(或(huò)NaOH),經循環脫硫泵打入脫硫循環吸收SO2。
脫硫塔(tǎ)頂部裝有除霧器,經除霧器折流板碰衝作用,煙氣攜帶的煙塵和其他水滴、固體顆粒被除霧器(qì)捕獲(huò)分離。
3、脫硫產物處理
脫硫(liú)產物是石膏漿,具體為CaSO3、CaSO4還有部分被氧化的Na2SO4及粉塵。由潛水泥(ní)漿泵(bèng)從沉澱池排出處理好,經自然蒸發晾幹。由於石膏漿中含(hán)有固體雜質,影響石膏的質量,所以一般以拋棄(qì)法為(wéi)高。排出沉澱池漿液可經水力旋流器,稠厚器增濃提(tí)固後,再排至渣場處理。
4、關於二次汙(wū)染的解決
雙堿法是以鈉堿吸收SO2,其產物可再生出鈉堿繼續使用(yòng)。有少量的Na2SO4不能夠再生被帶入石膏漿液中,經固液分離,分離的固體殘渣進行回收堆放再做他用(yòng)。溶(róng)液流回再生池繼續使用,因此不會產生二次汙染(rǎn)。
5、吸收SO2效率及主要影響因素
PH值:PH值高,SO2吸收速率大,脫硫效率高,同時PH值高,結(jié)垢幾率小,避免吸(xī)收劑表麵純化。
溫度:溫(wēn)度低有利於氣液傳(chuán)質,溶解SO2,但溫(wēn)度低影響反應(yīng)速(sù)度,所(suǒ)以脫(tuō)硫劑的溫度不是一個獨立的不變因素,取決於(yú)進氣的煙氣溫度。
石灰粒度及純(chún)度:要求(qiú)石灰(huī)純度(dù)≥95%,粒度控(kòng)製Pc200~300目內。
液漿濃度:控製在10~15%。