發布時間:2023-07-17 11:30:37 人氣:13780
雙堿法脫硫工藝是先(xiān)用鈉堿性吸收液進行煙氣脫硫,然後再用石灰粉再生脫硫液,由於(yú)整個反應過程是液氣相(xiàng)之間進行,避免了係統結垢問題,而且(qiě)脫硫速率高、液氣(qì)比(bǐ)小、吸收(shōu)劑利用率高、投資(zī)費用(yòng)省、運行成本低,適用於(yú)鍋爐煙氣、焦爐氣、鍋(guō)爐生產廢氣等的脫硫。
一、工藝特點
1、以NaOH(Na2CO3)脫硫,材料普通,資源豐富,投資成本低;脫硫液中主要為NaOH(Na2CO3)水溶液,在循環過程中緩解水泵、管道(dào)、設備腐蝕、衝刷及堵塞,便於設備運行和維護。
2、鈉基吸收液對SO2反應速(sù)度快,故有較小的液氣(qì)比,達到較高的脫硫效率,一般≥90%。
3、脫硫劑可被循環使用(yòng),它的再生及脫(tuō)硫沉澱均發生於塔體,避免塔內堵塞和磨損,降低了運行成本(běn)。
4、以空塔(tǎ)噴淋為脫硫塔結構,運行可靠性高,事故發生率小,塔阻力低,△P≤600Pa。
二(èr)、工藝原理
1、工藝介紹
雙堿法脫(tuō)硫係統采用鈉基脫硫劑(jì)進行脫硫,將NaOH(燒堿、火堿(jiǎn))和Ca(OH)2(熟石灰、消石灰)攪拌均勻後做成溶液打入脫硫塔,該堿性溶(róng)液霧化後與含硫煙(yān)氣充分反應,從而脫除煙(yān)氣(qì)中的SO2。脫硫產物經脫硫劑再生池被Ca(OH)2還原成NaOH,可再次循環使用。
2、工藝原理
含硫煙氣經除(chú)塵後,由引風機(jī)正壓吹入噴(pēn)淋脫(tuō)硫(liú)塔內。在噴淋塔內設置霧化係統,在該區段空間充滿著由(yóu)霧化器噴出的粒徑為100~300μm的霧化液滴,煙氣中SO2與吸收堿液再次反應,脫除90%以上的二氧化硫。
脫硫(liú)後的液體落入脫硫塔底部,定時定期排入(rù)脫硫塔後設置的收集係統,適當補充一定量的堿液後,經循(xún)環泵再次送入噴霧和配液係統(tǒng)中被再(zài)次利用,脫硫劑一(yī)直處於循環狀態。
經多次循環後的脫(tuō)硫漿液(yè)排入後(hòu)處理係統。由於設計的特殊性,經脫硫後的煙氣通過塔(tǎ)頂除霧器時,將煙氣中的(de)液滴分離出來,達到同時除塵(chén)除霧的效果,潔淨煙(yān)氣終達標排放(fàng)。
三、工藝優勢
1、煙氣係統
煙氣經煙道引風機直接進入脫硫塔,脫硫塔以空塔噴淋結構,設計空速小(4.0m/s),塔壓力降小(≤600Pa)。脫(tuō)硫(liú)集(jí)中除塵、脫硫、排煙氣於一體,煙(yān)氣升(shēng)至塔頂進入煙囪排入大氣。當(dāng)脫硫泵出現故(gù)障時,脫硫暫停反應,煙氣可通(tōng)過煙囪排入大氣。
2、脫硫塔SO2吸收係統(tǒng)
煙氣進(jìn)入脫硫塔向上升起,與向(xiàng)下(xià)噴淋的脫硫塔以(yǐ)逆流式洗滌,脫硫塔采用噴嘴式空塔噴淋,將溶劑霧化無數(shù)液滴,讓氣液充分接觸吸(xī)收SO2。氣液相接觸麵積越大,兩相傳質熱反應,效(xiào)率越高。
脫硫塔內堿液霧化吸收SO2及粉塵,生成Na2SO3,同(tóng)時消耗了NaOH和Na2SO3。脫硫液排出塔外進入再生池與Ca(OH) 2反應,再生出鈉(nà)離子並補入Na2SO3(或NaOH),經(jīng)循環脫硫泵打入脫硫循環吸收SO2。
脫硫塔頂(dǐng)部裝有(yǒu)除(chú)霧器,經除霧器折流板碰衝作用(yòng),煙氣攜帶的煙塵和其他水滴(dī)、固體(tǐ)顆粒被除霧器捕(bǔ)獲分離。
3、脫硫(liú)產物處理
脫硫產物是石膏漿,具體為CaSO3、CaSO4還有部分被氧化的Na2SO4及粉塵。由潛水泥漿泵從沉澱池排(pái)出處理好,經自然蒸發晾幹。由於石膏漿中含(hán)有固體雜質,影響石膏的質量,所以一般以拋棄法為高。排出沉澱池漿(jiāng)液可經水力旋流器,稠厚器增濃提固後(hòu),再排至渣場處理。
4、關於二次汙(wū)染的解決
雙堿法是以鈉堿(jiǎn)吸收SO2,其產物可(kě)再生出鈉堿繼續(xù)使(shǐ)用。有少量的Na2SO4不能夠再(zài)生被(bèi)帶入石膏漿液中,經固液分離,分離的固體殘渣進行回收堆放再做他用。溶液流回再生池(chí)繼續使用(yòng),因此(cǐ)不會產生二次汙染。
5、吸收SO2效率及主要影(yǐng)響因素
PH值(zhí):PH值高,SO2吸收速率大,脫硫效率高(gāo),同時PH值(zhí)高(gāo),結垢幾率小,避免吸收劑表麵純化。
溫度(dù):溫度低有利於氣液(yè)傳質,溶解SO2,但溫度低影響反應速度,所以脫硫劑的溫度不是一個獨立的不變因素,取決於進氣的煙氣溫度。
石灰粒度及純度:要求石灰純度≥95%,粒(lì)度(dù)控製Pc200~300目內。
液漿濃度:控製在10~15%。