發布時間:2023-07-17 11:30:37 人氣:13780
雙堿法脫硫工藝是先用鈉堿性吸收液(yè)進行煙氣脫硫,然後再用石(shí)灰粉再生脫硫液,由於(yú)整個反應過程是液氣相之間進(jìn)行,避免了係統結垢問題,而且脫硫速率高、液氣比小、吸收劑利用率高、投資費用(yòng)省、運行成本低,適用於鍋爐煙氣、焦爐氣、鍋(guō)爐生產(chǎn)廢氣等的脫硫。
一、工藝(yì)特點
1、以NaOH(Na2CO3)脫硫,材料普通,資源豐富,投資成本低;脫硫液中主要為NaOH(Na2CO3)水溶液,在循環過程中緩(huǎn)解(jiě)水泵、管道、設備腐蝕、衝刷(shuā)及(jí)堵(dǔ)塞,便於設備運行和(hé)維護。
2、鈉基吸收液對SO2反應速度快,故有較小的液氣比,達到較高的(de)脫(tuō)硫效率,一般≥90%。
3、脫硫(liú)劑可被循(xún)環使用,它的再生及脫硫沉澱(diàn)均發生於塔體,避免塔內堵塞和磨損,降低了運行成本。
4、以空塔噴(pēn)淋為脫硫塔結構,運行可靠性高,事故發生率小,塔(tǎ)阻(zǔ)力低,△P≤600Pa。
二、工藝(yì)原理
1、工藝介紹
雙堿法脫硫係(xì)統采用鈉基脫硫劑進行脫硫(liú),將NaOH(燒堿、火(huǒ)堿)和Ca(OH)2(熟石灰、消石灰)攪拌均勻後做(zuò)成溶液打入脫硫塔,該堿性溶液霧化後與含硫煙氣充分反應(yīng),從而脫除煙(yān)氣中的SO2。脫硫產物經脫硫(liú)劑(jì)再(zài)生池被Ca(OH)2還原成NaOH,可(kě)再(zài)次(cì)循環使用(yòng)。
2、工(gōng)藝原理
含硫煙氣經除塵後,由引風(fēng)機正壓吹(chuī)入噴淋脫硫塔內。在噴淋塔內設置霧(wù)化(huà)係統,在該區段空間充滿著由霧化器噴出的粒徑為100~300μm的霧化液滴,煙(yān)氣中SO2與吸收堿液再次反應,脫除90%以上的二氧化(huà)硫。
脫硫(liú)後的液體落入脫硫塔底部,定時定期排入脫硫塔後設置的收集係統,適當補充一定量的堿液後,經(jīng)循環泵再次送入噴霧和配液係統中被再(zài)次利用,脫硫劑一直處於循環狀態。
經多次循環(huán)後的脫硫漿液排入後處理係統。由於設計的特殊性,經脫硫後的煙氣通過塔頂除霧器(qì)時,將煙氣中的液(yè)滴分離出來,達到同時除塵除霧的效果(guǒ),潔淨煙氣(qì)終達標排放。
三、工藝優勢
1、煙氣係統
煙氣經煙道引風(fēng)機直接進入(rù)脫硫塔,脫硫塔以空塔噴淋結構,設計空速小(4.0m/s),塔壓力降(jiàng)小(≤600Pa)。脫硫集中除塵、脫硫、排煙氣於一體,煙氣升至塔頂進入煙囪排入大氣。當脫硫泵出現故障時,脫硫暫停反應,煙氣可通過煙囪排入大氣。
2、脫硫塔SO2吸收係統
煙氣(qì)進(jìn)入脫硫塔向上升起(qǐ),與向下噴淋的脫硫塔以逆流式洗滌,脫硫塔采用噴嘴式空塔噴淋,將(jiāng)溶劑霧化無數液滴,讓氣液充分接(jiē)觸吸(xī)收SO2。氣液相接觸麵積越大,兩相(xiàng)傳質熱反(fǎn)應,效率越高。
脫硫(liú)塔內堿液(yè)霧化吸收SO2及粉塵,生成(chéng)Na2SO3,同時消耗了NaOH和Na2SO3。脫硫液排出塔外進入再生池與Ca(OH) 2反應,再生出(chū)鈉離(lí)子並補入Na2SO3(或(huò)NaOH),經循環脫硫泵打入脫硫循環吸收SO2。
脫硫塔頂(dǐng)部裝有除霧器,經除霧器折流板碰衝(chōng)作用,煙氣攜帶的煙塵和其他水滴、固體顆粒被除霧器捕獲分離。
3、脫硫產物(wù)處理
脫硫產物是石膏漿,具體為CaSO3、CaSO4還有部分被氧化的Na2SO4及粉(fěn)塵。由潛水泥漿泵從沉澱池排出處理好,經(jīng)自然蒸發晾幹。由於(yú)石膏漿(jiāng)中含有(yǒu)固體雜質,影響石膏的質量,所以一般以拋棄法為高。排出沉澱池漿液可經水力旋流器,稠厚器(qì)增濃(nóng)提固後,再排至渣場處理。
4、關(guān)於二次汙染的解決
雙堿法是以鈉堿吸收SO2,其產物可再生出鈉堿繼(jì)續使用。有少量的(de)Na2SO4不能夠再生被帶入石膏漿液中,經固液分離,分離的固體殘渣進行回收堆放再(zài)做他用。溶液(yè)流回再生池繼續使用,因此不會(huì)產生二次汙(wū)染。
5、吸(xī)收(shōu)SO2效率(lǜ)及主要影響因素
PH值:PH值高,SO2吸收速率大,脫硫(liú)效率高,同時(shí)PH值高,結垢幾率小,避免吸收劑表麵純化。
溫(wēn)度:溫度低有利於氣液傳質,溶(róng)解SO2,但溫度低影響反應速度,所(suǒ)以脫硫劑的溫(wēn)度不是一個獨立的不(bú)變因素,取決於進氣的(de)煙氣溫度。
石灰粒度及純度:要求石(shí)灰純度≥95%,粒度(dù)控製Pc200~300目內(nèi)。
液漿濃度(dù):控製在10~15%。