永州雙堿法脫硫塔-雙堿法脫硫塔工作原理

雙堿法脫（tuō）硫工藝是先用鈉堿（jiǎn）性吸收液進行煙氣脫硫，然後再用石灰粉再生脫硫液，由於整個反應過程是液氣相之（zhī）間進行，避免了係統結垢問題，而且脫硫速率高、液氣比小、吸收劑利用率高、投（tóu）資費用省（shěng）、運（yùn）行成（chéng）本低（dī），適（shì）用於鍋爐煙氣、焦爐氣、鍋爐生產廢氣等的脫硫。

一、工藝特點

1、以NaOH(Na2CO3)脫硫，材料普通，資源豐富（fù），投資成本低；脫硫液中主要為NaOH(Na2CO3)水（shuǐ）溶液，在循環過程中緩解水泵、管道、設備腐（fǔ）蝕、衝刷及（jí）堵塞，便於設備（bèi）運行和維（wéi）護。

2、鈉基吸收液對SO2反應（yīng）速度快（kuài），故有較小的（de）液氣比，達到較（jiào）高的脫硫效率，一般≥90%。

3、脫硫劑可被循環使用，它（tā）的再生及脫硫沉澱均發生於塔體，避免（miǎn）塔內堵塞和磨損，降低了運行成本。

4、以空（kōng）塔噴淋為脫硫塔（tǎ）結構，運行可靠性高，事故發生率小，塔阻力低，△P≤600Pa。

二、工藝原理

1、工藝介紹（shào）

雙堿法脫硫係統采用鈉基脫硫劑進行脫硫，將NaOH（燒堿、火堿）和Ca(OH)2（熟石灰、消石（shí）灰）攪拌均勻後做成溶液打入脫硫塔，該堿性溶（róng）液霧化後與含硫煙氣充分反應，從而脫除（chú）煙氣中的SO2。脫硫產（chǎn）物經脫硫劑（jì）再生池（chí）被Ca(OH)2還原成NaOH，可再次循環使用（yòng）。

2、工藝原理

含硫煙（yān）氣經除塵後，由引風機正壓吹入噴淋脫硫（liú）塔內。在噴淋塔內設（shè）置霧化係統，在該區段空間充（chōng）滿著由霧化器噴出的粒徑為（wéi）100～300μｍ的霧化液滴，煙氣中SO2與吸收堿液再次反應，脫除90%以上的（de）二氧化硫。

脫硫後的液體落入脫（tuō）硫塔底部，定時定期（qī）排入脫硫塔後設置的收集係（xì）統，適當補充（chōng）一定量的堿液後，經（jīng）循環泵再次送入噴霧和配液係統中被再（zài）次利用，脫（tuō）硫劑一直處於循（xún）環狀態。

經多次循環後的脫硫漿液排入後處理係統。由於設計的特殊性，經脫硫後的煙氣通過（guò）塔頂除霧器時，將煙氣（qì）中的液滴分離出來，達到同時除塵除霧的效果，潔淨煙氣終達標排放。

三、工藝優勢

1、煙氣係統

煙氣經煙道引風機直接進入脫硫塔，脫硫塔以空塔噴淋結構，設計（jì）空速小（4.0m/s），塔壓力降小（≤600Pa）。脫硫集中除塵、脫硫（liú）、排煙氣於（yú）一體，煙氣升至塔頂進入煙（yān）囪排入大氣。當脫硫泵出現故障時，脫硫暫停反應，煙氣可通過煙囪排入大氣。

2、脫硫塔SO2吸收係統

煙氣進入脫硫塔向上升起（qǐ），與向下噴淋的脫硫塔以逆流（liú）式洗滌，脫硫塔采用噴嘴式空塔噴淋，將溶劑霧化無（wú）數液滴，讓氣液（yè）充分接觸吸收（shōu）SO2。氣液相接觸麵積越大，兩相傳質熱反應，效率（lǜ）越高。

脫（tuō）硫塔內堿液霧（wù）化吸（xī）收SO2及粉塵，生成Na2SO3，同（tóng）時消耗了NaOH和Na2SO3。脫硫（liú）液排出塔（tǎ）外進入再生池與Ca(OH) 2反應，再生出鈉離子並補入Na2SO3（或NaOH），經（jīng）循環脫硫泵打（dǎ）入脫硫循環吸收SO2。

脫硫塔頂部裝有除霧器，經除霧器折流板碰衝作用，煙氣攜帶的煙塵和（hé）其他水滴、固體顆粒被除霧器（qì）捕獲分離。

3、脫硫產物處理

脫（tuō）硫產物是石（shí）膏漿，具體為CaSO3、CaSO4還有部分被氧（yǎng）化的（de）Na2SO4及粉塵。由（yóu）潛水泥漿泵從沉澱池（chí）排（pái）出處理好，經自然（rán）蒸發晾幹。由於石膏（gāo）漿中含有固體雜質，影響石膏的質量，所以一般以拋棄法為高。排（pái）出（chū）沉澱池漿液可經水力旋流器，稠（chóu）厚器增濃提固後，再排至渣場處理。

4、關於二次汙染的解決

雙堿法是以鈉堿吸收SO2,其產物可再生出鈉堿繼續使用。有少（shǎo）量的Na2SO4不能夠再生（shēng）被帶入石（shí）膏漿液中，經固液分（fèn）離，分離的固體殘渣進行回收堆放再做他用。溶液流（liú）回再生池繼續使用，因此不會產生二次汙染。

5、吸收SO2效率及（jí）主要影響因素

PH值：PH值（zhí）高，SO2吸收速率大，脫硫效率高，同時PH值高，結垢幾率小，避免（miǎn）吸收劑表麵純化。

溫度：溫度低有利於氣液傳質，溶解SO2，但溫（wēn）度低影響反應速度（dù），所以脫硫劑的溫度不是一個獨立的不變因素，取（qǔ）決於進氣的煙氣溫度。

石灰粒度及純度：要求石灰純度≥95%，粒度控製Pc200~300目內（nèi）。

液漿濃度：控製在10~15%。