新鄉（xiāng）雙堿法脫（tuō）硫塔-雙堿法脫硫塔工作原理

雙堿法脫硫工藝是先用鈉堿（jiǎn）性吸收液進行煙氣脫硫，然後再用石灰粉再生脫硫液，由於整個反應（yīng）過程是（shì）液氣（qì）相之間進行，避免了係統結垢（gòu）問題，而且脫硫速率高、液氣（qì）比小、吸收劑利用率高、投資費用省、運行成本低，適用於（yú）鍋爐煙氣、焦爐氣、鍋爐生（shēng）產廢氣等的脫硫。

一、工藝特點

1、以NaOH(Na2CO3)脫（tuō）硫，材料普通，資源豐富，投（tóu）資成本低；脫硫液中主要為NaOH(Na2CO3)水溶液，在（zài）循環過程（chéng）中緩解水泵、管道、設備腐蝕、衝刷及堵塞（sāi），便於設備運行和維護。

2、鈉基吸收液對SO2反應速度快，故有較小的液氣比，達到較高的脫硫效率，一般≥90%。

3、脫（tuō）硫劑可被循環使用，它（tā）的再生及脫硫沉（chén）澱均發生於塔體，避免塔內堵塞和磨損，降低了運行成本。

4、以空塔（tǎ）噴淋為脫硫塔結構，運行可靠性（xìng）高，事故發生率（lǜ）小，塔阻力低，△P≤600Pa。

二、工藝原（yuán）理

1、工藝介紹

雙（shuāng）堿法脫硫係統采用鈉基脫硫劑進行脫硫，將NaOH（燒堿、火堿）和Ca(OH)2（熟石灰、消石灰）攪（jiǎo）拌均勻後做成溶液打入脫硫塔（tǎ），該（gāi）堿性溶（róng）液霧化後與含硫煙（yān）氣充分（fèn）反應，從而脫除煙氣中的SO2。脫硫產物經脫硫劑再生池被Ca(OH)2還原成NaOH，可再次循（xún）環使用。

2、工藝原理

含硫煙氣經除塵後，由引風機正壓吹入噴淋脫硫塔內。在噴淋塔內設置霧化係統，在該區段空（kōng）間充滿著由霧化器噴（pēn）出的粒徑為100～300μｍ的（de）霧化液滴，煙氣中SO2與吸收堿液再次反應，脫除90%以上的二氧化硫。

脫硫後的液體落入（rù）脫硫塔底部，定時定期排入脫硫塔後設置的收集係統，適當（dāng）補充一定量的堿液（yè）後，經循環泵再次送（sòng）入噴霧和配液係統中被再次利用，脫（tuō）硫（liú）劑一直處於循環（huán）狀態。

經多次循環後的脫硫漿液（yè）排入後處理係統。由（yóu）於設計的特殊性，經脫硫後的煙氣通過塔頂（dǐng）除霧器時，將煙氣中的液滴分離出來，達到同時除塵除霧的效果，潔淨煙氣終達（dá）標排放。

三、工藝優勢

1、煙氣係統

煙氣經煙道引風機直接進入脫（tuō）硫塔，脫硫塔以空（kōng）塔噴淋結（jié）構，設計（jì）空速小（4.0m/s），塔壓力降（jiàng）小（≤600Pa）。脫硫集（jí）中除塵、脫硫（liú）、排煙氣於一體，煙氣升至塔頂進入（rù）煙囪排入大氣。當脫硫泵出（chū）現（xiàn）故（gù）障時，脫硫暫停反應，煙氣可（kě）通過煙囪排入大（dà）氣。

2、脫硫塔SO2吸收係統

煙氣進入脫（tuō）硫塔向上升起，與向下噴淋的脫硫塔以逆流式洗滌，脫硫塔采用噴嘴式空塔噴淋（lín），將溶劑霧化無數液滴，讓氣液充分接觸吸收SO2。氣液相接觸麵積越大，兩相傳質熱反應，效（xiào）率越高。

脫硫塔內堿液（yè）霧化吸收（shōu）SO2及粉塵，生成Na2SO3，同時消耗了NaOH和Na2SO3。脫硫液（yè）排出塔（tǎ）外進入再生池與Ca(OH) 2反應，再生（shēng）出鈉離子並補入Na2SO3（或NaOH），經循環脫硫泵打入脫硫循環吸收SO2。

脫硫塔頂部裝有除霧器，經除霧器折流板碰（pèng）衝（chōng）作用，煙氣攜帶的煙塵和其（qí）他水滴、固體顆粒被除霧器捕獲分離。

3、脫硫產物處理（lǐ）

脫硫產（chǎn）物（wù）是石膏漿，具體為CaSO3、CaSO4還有部分被氧化的（de）Na2SO4及粉塵。由（yóu）潛水泥漿泵從沉澱池排出處理好（hǎo），經自然蒸發晾幹。由（yóu）於石膏漿中含有固體雜質，影響石膏的質（zhì）量，所以一般（bān）以（yǐ）拋棄法為高。排出沉澱池漿液可經水力旋流器，稠厚器增濃提固後，再排至渣場處理。

4、關於二次汙染的解決

雙堿法是以鈉堿吸收SO2,其產物可再生出鈉堿繼續使用。有少量的Na2SO4不能夠再生被帶入石膏漿液中，經固液分離，分離（lí）的固體（tǐ）殘渣進行回收堆放再做他用（yòng）。溶液流回再生池繼續使用，因此不會產生二（èr）次汙染。

5、吸收SO2效率及主要影（yǐng）響因素

PH值：PH值高，SO2吸收速率（lǜ）大，脫硫效率高，同時PH值高，結垢幾率小，避免吸收劑表麵純化。

溫度：溫度低有利於氣液（yè）傳質，溶解SO2，但溫度低影響（xiǎng）反應速度，所以脫硫劑的溫度不是一個獨立的不（bú）變因素，取（qǔ）決於進氣的煙（yān）氣溫度。

石灰粒度及（jí）純度：要求（qiú）石（shí）灰純度≥95%，粒度控製Pc200~300目內。

液（yè）漿濃度：控製在10~15%。