發(fā)布時間:2023-07-17 11:30:37 人氣:13780
雙堿法脫硫工藝是先用鈉堿性吸收液進行煙氣脫硫,然後再用石灰粉再生脫硫液,由於(yú)整個反應過程是液氣相(xiàng)之間進行(háng),避免了係統結垢問題(tí),而且脫硫速率高(gāo)、液氣比小、吸收劑利用率高、投資(zī)費(fèi)用省、運行成本低,適用於鍋爐煙氣、焦爐氣、鍋爐生產廢氣等的脫硫。
一、工藝特點
1、以NaOH(Na2CO3)脫硫,材料普通,資源豐富(fù),投資成本低(dī);脫(tuō)硫液中主要為NaOH(Na2CO3)水溶液,在循環過程中緩解水泵、管道、設備(bèi)腐蝕、衝刷及堵塞,便於設備(bèi)運行和維護。
2、鈉基吸收液對SO2反應速度快,故有較小(xiǎo)的液氣比,達到較高(gāo)的脫硫效率,一般≥90%。
3、脫硫劑可被循(xún)環使用,它的(de)再生及脫硫沉澱均發生於塔體,避免塔內堵塞和磨損(sǔn),降低了運行成本。
4、以空(kōng)塔噴淋為脫硫塔結構,運行可靠性(xìng)高,事故發生率(lǜ)小,塔阻力低,△P≤600Pa。
二、工藝(yì)原理
1、工藝(yì)介紹
雙堿法(fǎ)脫硫係統采用鈉基脫硫劑進行脫硫,將NaOH(燒堿、火堿)和Ca(OH)2(熟石灰、消石灰)攪拌均勻後做成溶液打入脫硫塔(tǎ),該堿性溶液霧化後與含硫煙氣充分反應,從(cóng)而脫除煙氣中的SO2。脫硫產物經脫硫劑再生(shēng)池(chí)被Ca(OH)2還原成NaOH,可再次循環使用。
2、工藝原理
含硫(liú)煙氣經除(chú)塵後,由引風機正壓吹入噴淋脫(tuō)硫塔內。在噴淋塔內設置霧化係統,在該區段空間充滿著由霧化(huà)器噴出的粒徑(jìng)為100~300μm的霧化液滴,煙氣中SO2與吸收堿液再次反(fǎn)應,脫除90%以上的二氧化硫。
脫硫後的液體落入脫硫塔底部,定時(shí)定期排入脫硫塔後設置的收(shōu)集係統,適當補充一定量的(de)堿液後(hòu),經循環泵再次送入噴霧和配液係統中(zhōng)被再次利用,脫硫劑一直處於循環狀態。
經多次循環後的脫(tuō)硫漿液排入(rù)後處理係統。由於設計的特殊性,經(jīng)脫硫(liú)後的煙氣通過塔頂除霧器時,將煙氣中的液滴分(fèn)離出來,達到同時除塵(chén)除霧的效果,潔淨煙氣終達標排放。
三、工藝優勢
1、煙氣係統
煙氣經煙道引風機直接進入脫硫塔,脫硫塔以空塔噴淋結(jié)構,設(shè)計空速小(4.0m/s),塔壓力降小(≤600Pa)。脫硫集中除塵、脫硫(liú)、排煙氣於一體,煙氣升(shēng)至塔頂進入煙囪排入大氣。當脫硫泵出現故障時,脫硫暫停反應,煙氣可通過(guò)煙囪排入大氣(qì)。
2、脫硫塔SO2吸收係統
煙氣進入脫硫塔向上升起,與向下噴(pēn)淋(lín)的脫硫塔以逆流式洗滌,脫硫塔采用噴嘴式空塔噴淋,將溶劑霧化無(wú)數液(yè)滴,讓氣液充分(fèn)接觸吸收SO2。氣液相接觸麵積越大,兩相傳質熱反應,效率越高。
脫硫(liú)塔(tǎ)內堿液霧化吸收SO2及粉塵,生成Na2SO3,同時消耗了NaOH和Na2SO3。脫硫液排出(chū)塔外進入再生池與Ca(OH) 2反應,再生出鈉(nà)離子並補入(rù)Na2SO3(或NaOH),經循環脫硫泵打入脫硫循環吸收SO2。
脫硫塔頂部裝有(yǒu)除(chú)霧器,經除霧(wù)器折流板碰衝作用,煙氣攜帶的煙塵和其他水滴、固體(tǐ)顆粒被除霧器(qì)捕獲分離(lí)。
3、脫硫(liú)產物(wù)處理(lǐ)
脫硫產物是石膏漿,具體為CaSO3、CaSO4還有部分被氧化的Na2SO4及粉塵。由潛(qián)水泥(ní)漿泵從沉澱(diàn)池排出處理好,經自然蒸發晾幹。由於(yú)石膏(gāo)漿中含有固體雜質,影響石膏的質量,所以一般以拋棄法為高。排(pái)出沉澱池漿液可經水力旋流器,稠厚器增濃提固(gù)後,再排至渣場處(chù)理。
4、關於(yú)二次汙染的解決
雙堿法是以鈉堿吸收SO2,其產物可再生出鈉堿繼續使用。有少量的(de)Na2SO4不能夠再(zài)生被帶(dài)入石膏漿液(yè)中,經固液分離,分離的固體殘渣進行(háng)回收堆放再做(zuò)他用。溶液(yè)流回再生池繼續使用,因(yīn)此不會產生二次(cì)汙染。
5、吸收SO2效率及主要(yào)影響因素
PH值(zhí):PH值高,SO2吸收速(sù)率大,脫硫效率(lǜ)高,同時PH值高,結垢幾率小,避免吸(xī)收劑表麵純化。
溫度:溫度低有利於氣液傳質,溶解SO2,但溫度低影響反應速度,所以脫硫劑的溫度不是一個獨(dú)立的不變因素,取決(jué)於進氣的煙氣(qì)溫度。
石灰粒度及(jí)純度:要求石灰純度≥95%,粒度控製(zhì)Pc200~300目內。
液漿濃度:控製在10~15%。