發布時間:2023-07-17 11:30:37 人氣:13780
雙堿法脫(tuō)硫工藝(yì)是先(xiān)用鈉堿性吸收液進行煙氣脫(tuō)硫,然後(hòu)再用石灰粉再生脫硫液,由於整個反應過程(chéng)是液氣相之間進行(háng),避免(miǎn)了係統結垢問題,而且脫硫速率高、液氣比小、吸收劑利用率高、投資費用省、運行成本低,適用於鍋爐煙氣、焦爐氣(qì)、鍋爐生產廢氣等的脫硫。
一、工藝特點
1、以NaOH(Na2CO3)脫硫,材料普通,資源豐富,投資成本低;脫硫液中主要為NaOH(Na2CO3)水溶(róng)液(yè),在(zài)循環過程中緩解水泵、管道、設備腐(fǔ)蝕、衝(chōng)刷及堵塞,便於設備運行和維(wéi)護。
2、鈉基吸收液對SO2反應速度快,故(gù)有較(jiào)小的液氣比,達(dá)到較高(gāo)的脫硫效率,一般(bān)≥90%。
3、脫硫劑可被循環使用,它的再生及脫硫沉澱均發生於塔體,避免塔內堵塞和磨損,降低了運行成本。
4、以空塔噴淋為脫硫(liú)塔結構,運行可靠性(xìng)高,事故發生率小,塔阻力低,△P≤600Pa。
二、工藝原理
1、工藝介紹
雙堿法脫硫係統采用鈉基脫硫劑進行脫硫,將NaOH(燒堿(jiǎn)、火堿)和Ca(OH)2(熟石灰、消石灰)攪拌均勻後做成溶液打入脫硫塔,該堿性溶液霧化後與含硫煙氣充分反應,從而(ér)脫除煙(yān)氣中(zhōng)的SO2。脫硫產物經脫硫劑再生池被Ca(OH)2還原成(chéng)NaOH,可再次循環使用。
2、工藝原理
含硫煙氣經除塵後,由引風機正壓吹入噴淋脫硫塔內。在噴淋塔內設置霧化係統,在該區段空間充滿著由霧化器噴出的粒徑為100~300μm的霧(wù)化液滴,煙(yān)氣中SO2與吸收堿液再次反應,脫除90%以上的二氧化硫。
脫硫後的液(yè)體落入脫硫塔底部,定時定期排入脫硫塔後設置的收集係統,適當補充一定量的堿液後,經循(xún)環泵再次送入(rù)噴(pēn)霧和配液(yè)係統中被再次利(lì)用(yòng),脫硫劑一直處於循環狀態。
經多次循環後的脫硫漿液排入(rù)後處理係統(tǒng)。由於設計的特(tè)殊性,經脫硫後的煙氣通過塔頂除霧器時,將煙氣(qì)中的液滴分離出來,達到同時除塵除霧的(de)效果,潔淨煙氣終達標排放。
三、工藝優勢
1、煙氣係統(tǒng)
煙氣經煙(yān)道引風機直接進入脫硫塔,脫硫塔以空塔噴淋結構,設計空速小(4.0m/s),塔壓力降小(≤600Pa)。脫硫集中除塵、脫硫(liú)、排煙氣於一體,煙氣升至塔頂進入煙囪排入大氣(qì)。當脫硫泵出現故障時,脫硫暫停反(fǎn)應(yīng),煙氣可(kě)通過煙囪排入大氣。
2、脫硫塔SO2吸收係統
煙氣進入脫硫塔向上升起(qǐ),與向下噴淋的脫硫塔以逆流式洗滌,脫硫塔采用噴嘴(zuǐ)式空塔噴(pēn)淋,將溶劑(jì)霧化無數液滴,讓氣液充分接(jiē)觸吸收SO2。氣液相(xiàng)接觸麵積越大,兩相傳質熱反應,效率越高(gāo)。
脫硫(liú)塔內堿液霧化吸收SO2及粉塵,生成(chéng)Na2SO3,同時消耗了NaOH和Na2SO3。脫(tuō)硫(liú)液排出(chū)塔外進入再生池與Ca(OH) 2反應,再生出鈉離子(zǐ)並補入Na2SO3(或NaOH),經循環脫硫泵打入脫硫循環吸收SO2。
脫硫塔頂部裝有除(chú)霧(wù)器,經除霧(wù)器折流(liú)板(bǎn)碰衝(chōng)作用,煙氣攜(xié)帶的煙塵和其他(tā)水(shuǐ)滴、固(gù)體顆(kē)粒(lì)被除霧器捕獲(huò)分離。
3、脫硫產物處理
脫硫產物是石膏漿,具體為(wéi)CaSO3、CaSO4還有部分被氧化的Na2SO4及(jí)粉塵。由潛水泥漿泵(bèng)從沉澱池排出處理好,經自然蒸發晾幹。由於石膏漿中含有(yǒu)固體雜質,影響石膏的質量,所以一般以拋棄法為高。排出沉澱池漿液可經水力(lì)旋(xuán)流器,稠厚器增濃提固後,再排至渣場處理。
4、關於二次汙染的解決
雙堿法是以鈉堿(jiǎn)吸收SO2,其(qí)產物可再生出鈉堿繼續使用。有少量的Na2SO4不能夠再生被帶入石膏漿液(yè)中,經固液分離(lí),分(fèn)離的固體殘渣進行回收堆放再做他用。溶液流回(huí)再(zài)生池繼(jì)續使用,因此不會產生二次汙染。
5、吸收SO2效率及(jí)主要影響因素
PH值:PH值高,SO2吸收速率大,脫硫效率高(gāo),同時PH值高,結垢幾率小,避免吸收劑表麵純化。
溫度:溫度低有利於氣液傳質,溶解SO2,但溫度(dù)低影響反應速度(dù),所以(yǐ)脫硫劑的溫度不是一個獨立的不變(biàn)因素,取決於進氣的煙氣溫度。
石灰(huī)粒度及純度:要求石灰(huī)純度≥95%,粒度控(kòng)製Pc200~300目內(nèi)。
液漿濃度:控製在10~15%。